ICP-100A高密度等离子体刻蚀

点击图片查看原图
品牌: ICP-100A高密度等离子体刻蚀
基片尺寸: 4英寸及以下基片,兼容6英寸,同时兼容碎片
均匀性: <± 5%,(4英寸内)
气路: 可使用氯气氯基、氟基气体。,机台配置标配6路工艺气体,可扩展
单价: 面议
起订: 1 台
供货总量:
发货期限: 自买家付款之日起 120 天内发货
所在地: 北京
有效期至: 长期有效
最后更新: 2015-05-11 08:55
浏览次数: 396
询价
公司基本资料信息
 
 
产品详细说明

 ICP-100A型高密度等离子体刻蚀机是一种刻蚀速率高、加工精度高、损伤小的新一代先进刻蚀机。它是国家重点科技攻关项目“高密度等离子体刻蚀技术的研究”的成果。它由一组大功率的射频激励电源通过感应耦合在反应室内产生高密度等离子体,而由另一组功率较小的偏压电源引导离子垂直于被刻蚀物体运动,从而达到各向异性的高速低损伤刻蚀的目的。

机台可以实现硅基材料(如:Si、Poly-Si、SiNx、SiO2等)、Ⅲ—V族化合物(如GaAs、GaN)、金属(如Al、Ti、W、Mo、Ni、Cr等)以及其它材料(如:金属氧化物、光刻胶等)的刻蚀。

机台具有三层安全机制:软硬互锁机制、机台异常处理机制与急停机制(EMO)。开机后全程对冷却水,启动及各真空系统阀门进行监控。

 
更多»本企业其它产品

[ 产品展示搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 关闭窗口 ]